
判斷電子超純水設備的應用效果,需圍繞電子行業對水質 “高純度、低雜質” 的核心要求,結合水質指標檢測、生產適配性及系統運行狀態綜合評估,確保設備滿足晶圓制造、芯片封裝等環節的用水需求。...

萊特萊德芯片超純水設備能在一定程度上去除水中的二氧化硅、顆粒、細菌、有機物和微生物,從而達到行業用水要求。...

萊特萊德采用雙反+EDI+拋光混合床組合工藝:反滲透系統采用反滲透膜元件,利用反滲透原理去除水中溶解的鹽、有機物、膠體和大分子。降低水質中的離子含量...

EDI超純水系統排放的濃縮水可在RO前直接回用,使EDI超純水系統裝置實現無廢水排放,無二次污染。...

萊特萊德超純水設備在設計上采用成熟、可靠、自動化程度高的兩級RO+EDI+精混床除鹽水處理工藝,確保處理后出水電阻率達到18MΩ.CM以上。...

萊特萊德超純水設備通過雙級反滲透系統+EDI模塊的處理工藝,嚴格執行國家環保政策,可確保處理后的水穩定達標。...

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